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一般潔凈室高度控制在2.60米，對個(gè)別較高的設(shè)備可在局部加高，而不宜提高潔凈區(qū)的高度。潔凈室的構(gòu)成是由下列各項(xiàng)系統(tǒng)所組成(在所組成的系統(tǒng)分子中是缺一不可的)，否則將無法構(gòu)成一完整且品質(zhì)良好的潔凈室。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。

在實(shí)際施工中，凈化項(xiàng)目通常分為，分工和分時(shí)。 這種安排有利于各種和工作類型的管理。 但是，易于進(jìn)行多塵和無塵的交叉操作，應(yīng)盡可能避免這種結(jié)構(gòu)布置。 如果不可避免，應(yīng)該防止灰塵和有效清潔。1級：主要應(yīng)用于電子工業(yè)，這是目前對凈化工程要求高的環(huán)境，集成電路要求的精度要達(dá)到亞微米。隨著微電子工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的突飛猛進(jìn)，對潔凈室的要求越來越高。及時(shí)生產(chǎn)間內(nèi)的例子直徑僅有1微米，也會使產(chǎn)品壽命受到影響。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

在實(shí)際施工中，凈化項(xiàng)目通常分為，分工和分時(shí)。 這種安排有利于各種和工作類型的管理。 但是，易于進(jìn)行多塵和無塵的交叉操作，應(yīng)盡可能避免這種結(jié)構(gòu)布置。 如果不可避免，應(yīng)該防止灰塵和有效清潔。凈化工程的步的關(guān)鍵是設(shè)計(jì)，工程設(shè)計(jì)水平的好與壞將直接關(guān)系到整個(gè)工程之后的施工，還會影響凈化工程今后的穩(wěn)定性、可靠性、經(jīng)濟(jì)性。10級：主要用于帶寬小于2微米的半導(dǎo)體工業(yè)。其空氣凈化要求僅次于1級，并且我國半導(dǎo)體技術(shù)也在發(fā)展之中，在未來對潔凈度的要求更加高。